ISSN 0005-2531 (Print) ISSN 2522-1841 (Online)
СОПОЛИМЕРЫ НА ОСНОВЕ (п-ХЛОРФЕНОКСИ­КАРБО­НИЛ)­ЦИКЛОПРОПИЛСТИРОЛА СО СТИРОЛОМ И МЕТИЛМЕТАКРИЛАТОМ
А.И.Садыгова

Проведена радикальная сополимеризация (п-хлорфенокси)циклопропилстирола со стиро­лом и метил­метакрилатом. Получены новые циклопропансодержащие сополимеры. Определены значения констант относительной активности мономеров и рассчитаны параметры Q-e по Алфрею и Прайсу. Константы сополимеризации указанного соединения (r1) со стиролом и метилметакрилатом (r2), рассчитанные по методу Файнмана-Росса, составляют:  r1 = 1.1 и 1.05, а r2 = 0.56 и 0.48, соответственно; значения параметров Q и e: Q1 = 3.1 и 2.4, e1 = –1.4 и –0.8, соответственно. Исследовано фотохимическое структурирование и показано, что процесс структурирования протекает за счёт раскрытия циклопропанового кольца и карбонильной группы. Установлены состав и структура этих сополимеров и исследованы их некоторые характеристики (теплостойкость, твердость, адгезионная прочность, водопоглощение). Также изучен процесс структурирования сополимера и установлено, что синтезированный сополимер обладает относительно высокой фоточувствительностью (50–55 см2×Дж-1)

doi.org/10.32737/0005-2531-2022-3-45-50

Ключевые слова : микроструктура, мономеры, сополимеризация, (п-хлорфенок­си)цик­ло­про­пилстирол, фото­чувствительность
Просмотр статьи