ISSN 0005-2531 (Print) ISSN 2522-1841 (Online)
(p-XLORFENOKSİ)TSİKLOPROPİLSTİROLUN STİROL VƏ METİLMETAKRİLAT ƏSASINDA ALINAN BIRGƏPOLİMERLƏRİ
A.İ.Sadıqova

(p-Xlorfenoksi)tsiklopropilstirolun stirol və metilmetakrilat ilə radikal birgəpolimerləşməsi prosesi aparılmışdır. Yeni tsiklopropan tərkibli birgəpolimerlər alınmışdır. Monomerlərin nisbi aktivlik sabitlərinin qiymətləri müəyyən edilmiş və Q-e parametrləri Alfrey və Prays əsasında hesablanmışdır. Göstərilən birləşmənin (r1) stirol və metilmetakrilat (r2) ilə Faynman-Ross metodu ilə hesablanmış birgəpolimerləşmə sabitləri: müvafiq olaraq r1 = 1,1 və 1,05, r2 = 0,56 və 0,48; Q və e parametrlərinin qiymətləri: müvafiq olaraq Q1 = 3.1 və 2.4, e1 = -1.4 və -0.8 təşkil etmişdir. Fotokimyəvi strukturlaşma prosesi öyrənilmiş və strukturlaşma prosesinin tsiklopropan halqasının və karbonil qrupunun açılması hesabına baş verdiyi göstərilmişdir. Bu birgəpolimerlərin tərkibi və quruluşu müəyyən edilmiş və onların bəzi xüsusiyyətləri (istiliyədavamlılıq, bərklik, yapışqanlıq möhkəmliyi, suudma qabiliyyəti) öyrənilmişdir. Birgə­polimerlərin strukturlaşması prosesi də öyrənilmiş və müəyyən edilmişdir ki, sintez edilmiş birgəpolimerlər nisbətən yüksək fotohəssaslığa malikdir (50–55 sm2 ˑ J-1)

doi.org/10.32737/0005-2531-2022-3-45-50

Açar sözlər : mikrostruktur, monomerlər, birgəpolimerləşmə, (p-xlorfenoksi)siklopropil­stirol, fotohəssaslıq
Məqaləyə baxın